Al pensar en el hardware que sustenta la inteligencia artificial (IA), es probable que el primer nombre que venga a la mente sea Nvidia. Sin embargo, este desarrollador y el resto de la industria dependen de una empresa prácticamente desconocida que, con un perfil discreto, domina y sostiene no solo la infraestructura que da vida a grandes modelos de lenguaje como ChatGPT, sino también a gran parte de los dispositivos que conforman la era digital.
Fundada en 1984, ASML es una empresa neerlandesa que, con más de 44,000 empleados de tiempo completo y más de 60 ubicaciones distribuidas en tres continentes, figura entre los líderes de la industria mundial de los semiconductores porque es la única compañía capaz de fabricar máquinas de fotolitografía de ultravioleta extremo (EUV, por sus siglas en inglés).
La tecnología de redes de última generación, a veces alimentada por luz en lugar de electricidad, se perfila como una pieza fundamental de la infraestructura de la IA.
Esta característica ha convertido a ASML, con sede en Veldhoven, Países Bajos, en la empresa tecnológica más valiosa de Europa, con una capitalización bursátil superior a los 580,000 millones de euros. Este logro responde a la necesidad de la industria de producir microchips cada vez más potentes y eficientes, lo que implica reducir drásticamente el tamaño de los transistores para integrar la mayor cantidad posible en las obleas de silicio. Cuantos más transistores puedan concentrarse en una misma superficie, mayor será la capacidad de procesamiento, la eficiencia energética y el desempeño en tareas complejas.
En la práctica, esto representa un desafío extraordinario. Se trata de imprimir estructuras cada vez más diminutas, lo que exige utilizar longitudes de onda más cortas y sistemas ópticos con niveles de precisión sin precedentes. Precisamente ahí radica la importancia de la tecnología EUV.
El complejo proceso para fabricar un chip
Para comprender su funcionamiento, primero es necesario entender que los semiconductores no se fabrican ensamblando componentes individuales. El proceso, denominado fotolitografía, utiliza luz para transferir patrones geométricos o circuitos desde una plantilla (conocida como fotomáscara) hacia la superficie de una oblea de silicio.
Dentro de este procedimiento, el principal reto consiste en incorporar la mayor cantidad posible de circuitos en un espacio reducido. Esto implica reproducir miles de patrones microscópicos mediante pulsos de luz sobre áreas extremadamente pequeñas. Una forma sencilla de imaginarlo es pensar en dibujar una ciudad completa sobre la superficie de una uña, trazando calles, edificios y detalles miles de veces más delgados que un cabello humano.
Durante la fotolitografía, la superficie del silicio se recubre con un material sensible a la luz y posteriormente se expone a un patrón que contiene el diseño del circuito. Las zonas iluminadas reaccionan químicamente y permiten transferir la imagen al material. Sin embargo, durante décadas este procedimiento tuvo que repetirse numerosas veces debido a las limitaciones inherentes de los sistemas ópticos y de las longitudes de onda utilizadas.
